铝硅合金表面电沉积铬工艺的优化
OPTIMIZATION OF CHROMIUM PLATING PROCESS OF Al-Si ALLOY
摘 要
研究了在铝硅合金样品表面电镀硬铬的工艺.用正交试验法对含纳米氧化铈添加剂的镀铬配方进行成分优化,并采用不同的电流密度、镀液温度和电镀时间进行镀铬,经过对镀层的形貌、厚度及结合力等性能进行比较取舍,得出了低铬酸电镀硬铬的工艺配方： 80 g/L CrO3,0.7 g/L H2SO4,3 g/L Cr3+,3 g/L CeO2；电镀温度为40 ℃,电流密度为30 A/dm2,电镀时间120 min.结果表明：纳米氧化铈添加剂的加入,在获得光滑致密镀层的基础上,大大降低了镀液中铬酐的含量,从而降低了对自然环境的污染.
稀土添加剂
电镀铬
Al-Si alloy
Rare earth additive
Chrome plate
Abstract
The technology of chromium plating on Al-Si alloy was studied.The optimized formulation for the chromium plating was 80 g/L CrO3,0.7 g/L H2SO4,3 g/L Cr3+and 3g/L CeO2.Compared with the appearance,thickness,hardness and adhesion of the chromium coating,the optimized parameters for the process were recommended to be 40 ℃,current density of 30 A/dm2,and electroplating time of 120 min.A smooth,chromium electrodeposit with high hardness and wearability was obtained.Concentration of chrome acid and environment pollution were decreased.
中图分类号 TQ153.1+1
所属栏目 应用技术
基金项目 广东工业大学青年基金(052017)
收稿日期 2006/10/5
修改稿日期
网络出版日期
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引用该论文: CHEN Hai-yan,ZHU You-lan,LI Feng,SHU Chang. OPTIMIZATION OF CHROMIUM PLATING PROCESS OF Al-Si ALLOY[J]. Corrosion & Protection, 2007, 28(8): 417～419
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参考文献
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【5】李志勇,李新梅.镀铬添加剂[M].电镀与涂饰,2002,21(2):43-50.
【6】李云雁,胡传荣.试验设计与数据处理[M].北京:化学工业出版社,2005:79-81.
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